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usdt搬砖(www.caibao.it):助力芯片制造用光刻胶产物研发 上海新阳买下ASML二手光刻机一台

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原题目:助力芯片制造用光刻胶产物研发 上海新阳买下ASML二手光刻机一台

中证网讯(记者 吴科任)上海新阳3月11日晚通告,克日,由子公司芯刻微委托盛吉盛署理投标,乐成中标购得ASML XT1900 Gi型二手光刻机一台,该装备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。后续公司将启动装备的运输及相关安装调试等事情。

只管通告并未透露上述二手光刻机的价钱,但可以参考的是,2020年9月,同处半导体质料领域的晶瑞股份设计斥资1102.5万美元购置ASML的光刻机装备。晶瑞股份后面披露的通告显示,该光刻机为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机。

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这也不是上海新阳第一次购置ASML的光刻机。公司3月8日通告称,自主项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,放置购置了ASML-1400光刻机等焦点装备。该光刻机原设计2020年底前运抵海内,但由于公司与光刻机供应商、互助方相同协调装备运输与安装等细节,致使装备没能在划准时间内运达,预计于2021年3月尾前进入互助方现场。

上海新阳示意,公司作为海内集成电路制造要害工艺质料供应商,将突破集成电路高端光刻胶外洋垄断,实现集成电路高端光刻胶质料的国产化作为生长目的,在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有手艺与产物的突破。

而且,通过子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了焦点手艺专家团队,为ArF湿法光刻胶项目的开发提供了手艺保障。现采购ASML浸没式光刻机装备是对公司ArF湿法光刻胶手艺先进性的装备保障,对加速公司集成电路制造用光刻胶产物研发项目进度有起劲影响,有利于进一步提升公司光刻胶产物的焦点竞争力,加速落实公司生长战略,提高公司抗风险能力和可连续生长能力。

上海新阳强调,光刻胶产物在集成电路质料中手艺难度大,质量要求最高,开发周期长,且焦点手艺及原质料险些被外洋厂商所垄断。因此,存在着研发失败和研发设计滞后的风险。

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